1月13日，A股光刻機(jī)概念走高，多只概念股上漲。截至收盤，茂萊光學(xué)上漲15.23%，永新光學(xué)上漲8.70%，波長光電上漲6.87%，國林科技上漲6.78%，東方嘉盛上漲6.11%。

消息面上，日前，美國商務(wù)部工業(yè)和安全局（BIS）修訂了《出口管理?xiàng)l例》，涉及中國、緬甸和巴基斯坦等三個(gè)國家的13家實(shí)體，而中國實(shí)體占其中11家。其中，涉及中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所與中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所，此外，還有多家從事光學(xué)元件開發(fā)的企業(yè)也被納入名單。

根據(jù)公開資料，長光所和上光所是光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈的“排頭兵”。

國內(nèi)外各具優(yōu)勢

光刻機(jī)，又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是制造微機(jī)電、光電、二極體大規(guī)模集成電路的關(guān)鍵設(shè)備。而光刻機(jī)行業(yè)則是一個(gè)高度技術(shù)密集型和資本密集型的行業(yè)，其發(fā)展水平直接反映了一個(gè)國家在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的實(shí)力。

隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，光刻機(jī)的市場需求不斷增長，市場規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大。為了滿足半導(dǎo)體工藝對(duì)更小線寬和更高集成度的需求，光刻機(jī)的技術(shù)升級(jí)速度不斷加快，市場競爭也日益激烈。

目前，國外先進(jìn)光刻機(jī)廠商擁有更強(qiáng)大的技術(shù)研發(fā)能力和生產(chǎn)制造能力，其產(chǎn)品通常具有更高的分辨率、更小的制程尺寸以及更好的穩(wěn)定性和可靠性。相比之下，國內(nèi)光刻機(jī)在技術(shù)方面還有一定的差距，但正在逐步縮小。

相反的，國內(nèi)光刻機(jī)在價(jià)格上具有一定的競爭優(yōu)勢，因?yàn)閲鴥?nèi)制造商的成本控制能力和生產(chǎn)規(guī)模較大，能夠以更低廉的價(jià)格提供光刻機(jī)設(shè)備。

中國企業(yè)厚積薄發(fā)

在高端光刻機(jī)領(lǐng)域，特別是極紫外（EUV）光刻機(jī)方面，ASML（阿斯麥）處于絕對(duì)領(lǐng)先地位。公開資料顯示，ASML是目前全球唯一能制造極紫外光刻機(jī)的企業(yè)，其EUV光刻機(jī)在全球市場中占據(jù)了100%的份額。

此外，蔡司、尼康、佳能、Newport、Jenoptik、徠卡、奧林巴斯等國際企業(yè)在全球工業(yè)級(jí)精密光學(xué)市場中占據(jù)了超過70%的市場份額。這些企業(yè)雖然不專注于光刻機(jī)制造，但也在相關(guān)領(lǐng)域擁有強(qiáng)大的技術(shù)實(shí)力和市場份額。

對(duì)比來看的話，在全球光刻機(jī)市場中，目前中國企業(yè)的占比較低。其中，上海微電子是中國光刻機(jī)的絕對(duì)龍頭，出貨量已占國內(nèi)市場份額超過80%。其產(chǎn)品主要涉及ArF、KrF和i-line領(lǐng)域，已具備90nm及以下的芯片制造能力。

近年來，隨著國家政策的扶持和行業(yè)的發(fā)展，中國光刻機(jī)企業(yè)正在逐步崛起。

2024年，工業(yè)和信息化部等七部門聯(lián)合發(fā)布《關(guān)于推動(dòng)未來產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展的實(shí)施意見》，旨在推動(dòng)有色金屬、化工、無機(jī)非金屬等先進(jìn)基礎(chǔ)材料升級(jí)，發(fā)展高性能碳纖維、先進(jìn)半導(dǎo)體等關(guān)鍵戰(zhàn)略材料，并加快超導(dǎo)材料等前沿新材料創(chuàng)新應(yīng)用。這為光刻機(jī)所需的半導(dǎo)體材料等領(lǐng)域提供了發(fā)展指導(dǎo)，有助于提升光刻機(jī)制造的原材料水平。

2023年，河北省發(fā)布《加快建設(shè)數(shù)字河北行動(dòng)方案（2023-2027年）》，該方案旨在加快石家莊信息產(chǎn)業(yè)集群建設(shè)，完善半導(dǎo)體材料、集成電路、衛(wèi)星互聯(lián)網(wǎng)等產(chǎn)業(yè)鏈條，推動(dòng)重大項(xiàng)目建設(shè)，打造千億級(jí)電子信息產(chǎn)業(yè)集群。

此外，國家不定期發(fā)布行業(yè)稅收優(yōu)惠，資金支持等政策，并設(shè)立科技研發(fā)專項(xiàng)基金，都在為半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展助力，提升整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈水平。

國內(nèi)企業(yè)取得技術(shù)突破

上述提到，上海微電子是中國光刻機(jī)領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)。在全球后道光刻機(jī)市場，上海微電子占有率高達(dá)37%，在中國市場的占有率更是高達(dá)85%。

此外，華卓精科、國科精密、浙江啟爾機(jī)電、東方晶源、沈陽芯源微、大族激光和福晶科技等，這些企業(yè)在光刻機(jī)整機(jī)、關(guān)鍵零部件、曝光系統(tǒng)、浸液系統(tǒng)等方面取得了顯著進(jìn)展，為國產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展提供了重要支持。

股價(jià)在今天實(shí)現(xiàn)上漲的茂萊光學(xué)是國內(nèi)稀缺的工業(yè)級(jí)精密光學(xué)綜合解決方案提供商。公司為光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)提供用于勻光、中繼照明模塊的光學(xué)器件、投影物鏡，以及用于工件臺(tái)位移測量系統(tǒng)的棱鏡組件，是光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)光線均勻性與曝光成像的關(guān)鍵模塊。

在半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域，波長光電則已具備提供光刻機(jī)配套的大孔徑光學(xué)鏡頭的能力。公司成功開發(fā)的光刻機(jī)平行光源系統(tǒng)可用于國產(chǎn)光刻機(jī)領(lǐng)域配套，并已交付多套系統(tǒng)用于接近式掩膜芯片光刻工序。

炬光科技成立多年來一直為半導(dǎo)體光刻應(yīng)用領(lǐng)域提供光刻機(jī)曝光系統(tǒng)中的核心激光光學(xué)元器件——光場勻化器，供應(yīng)給世界頂級(jí)光學(xué)企業(yè)A公司，最終應(yīng)用于全球高端光刻機(jī)生產(chǎn)商的核心設(shè)備。同時(shí)，公司與國內(nèi)在這一領(lǐng)域的研發(fā)單位有廣泛合作，公司的光場勻化器產(chǎn)品應(yīng)用于國內(nèi)主要光刻機(jī)研發(fā)項(xiàng)目和樣機(jī)中。